詳細(xì)摘要: PhoenixBeta研磨拋光設(shè)備:研磨/拋光分三個(gè)階段:1.磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面2.無(wú)損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形...
產(chǎn)品型號(hào):所在地:更新時(shí)間:2023-12-27 在線留言
深圳市納科電子有限公司
詳細(xì)摘要: PhoenixBeta研磨拋光設(shè)備:研磨/拋光分三個(gè)階段:1.磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面2.無(wú)損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形...
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